尼康推出新一代步进式光刻机：5倍缩小投影倍率

尼康宣布推出新一代具有 5 倍缩小投影倍率的 i-line 步进式光刻机“NSR-2205iL1”，预计 2024 年夏季上市。

据称，这种光刻机具有缩小投影放大系统，支持功率半导体、通信半导体和 MEMS 等多种产品，并且与尼康现有的 i-line 曝光设备高度兼容；NSR-2205iL1 代表了尼康 5 倍步进技术在过去二十五年中的最重大的更新，将可直接响应客户对这些在芯片制造中发挥重要作用的光刻系统的需求。

尼康表示，与现有的尼康 i-line 曝光系统相比，NSR-2205iL1 具有出色的经济性，无论晶圆材料如何，都可以优化各种半导体器件的生产。

注：这是尼康 25 年来（从 1999 年“NSR-2205i14E2”开始接单时计算）首次推出投影倍率降低 5 倍的新型 i-line 曝光系统。

尼康指出，随着电动汽车、高速通信和各种 IT 设备的普及，支持这些应用的半导体需求呈指数级增长。这些半导体必须执行各种具有挑战性的功能，因此，设备制造商需要专门的基板和曝光系统来制造这些芯片。

除了扩展各种功能选项以满足客户多样化的需求外，这款新开发的 i-line 光刻机还将支持长期的设备生产。

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